Новосядлий, Степан Петрович, Любомир Васильович Мельник, and Святослав Володимирович Новосядлий. “Implementation Plasma Chemical Etching in Submicron Technology Wsi Structure”. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies 3, no. 5(75) (June 17, 2015): 21–24. Accessed May 4, 2024. https://journals.uran.ua/eejet/article/view/42128.