Ефективність магнітної сепарації макрочастинок в вакуумно-дугових системах нанесення покриттів

Автор(и)

  • А. А. Бизюков Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна, Україна
  • А. Д. Чибисов Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна, Україна
  • Е. В. Ромащенко Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна, Україна
  • В. В. Коваленко Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна, Україна

DOI:

https://doi.org/10.24144/2415-8038.2015.38.28-32

Ключові слова:

макрочастинки, плазма, магнітний фільтр

Анотація

Вивчена можливість транспортування макрочастинок (МЧ) через магнітний фільтр вакуумно-дугових джерел плазми. Показано, що при русі МЧ через криволінійний магнітний фільтр МЧ можуть заряджатися як позитивно, так і негативно. При умові існування від`ємного просторового заряду (радіального електричного поля) в плазмоводі відбуваються зміни траєкторії руху МЧ. При цьому в залежності від параметрів МЧ та плазми, можливо їх утримання всередині плазмоводу. Отримані умови, при яких відбувається транспортування макрочастинок через фільтр.

Посилання

Boxman R.L., Sanders D.M., Martin P.J. (Eds). Handbook of Vacuum Arc Science and Technology: Fundamentals and Applications − Park Ridge, NJ: Noyes Publ. − 1995. − 742 p.

Anders A.Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation. Springer Science Business Media, LLC. − 2008. − 540 p.

Аксенов И.И., Андреев А.А., Белоус В.А. и др. Вакуумная дуга: источники плазмы, осаждение покрытий, поверхностное модифицирование / под. ред. Аксенова И.И. − НПП «Издательство "Наукова думка" НАН Украины» − 2012. – 726 с.

Фортов В.Е., Храпак А.Г. Пылевая плазма // УФН. − 2004. − Т. 174, № 5. − С. 495-544.

Bizyukov A.A., Romashchenko E.V. et al. Electric potential of a macroparticle in beam-plasma systems // Plasma Physics Reports.− 2009. − Vol. 35, №. 6. − P. 499–501.

Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. - М., 1971. – 543 с.

Byon E. and Anders A. Bias and Self-Bias of Magnetic Macroparticle Filters for Cathodic Arc Plasmas // J.Appl.Phys. − June 15, 2003. - V. 93, No. 12 −– Р. 8890-8897.

##submission.downloads##

Опубліковано

2015-07-01

Номер

Розділ

Статті