Cпектроеліпсометричні дослідження тонких плівок системи tio<sub>2</sub>–zro<sub>2</sub>–hfo<sub>2</sub>

Автор(и)

  • О. Нагусько Ужгородський національний університет, Україна
  • І. Студеняк Ужгородський національний університет, Україна

DOI:

https://doi.org/10.24144/2415-8038.2009.26.104-117

Ключові слова:

Cпектроеліпсометричні дослідження, Композиційне розупорядкування, Дисперсійні залежності,

Анотація

Проведено еліпсометричні та спектрометричні дослідження тонких плівок системи
TiO2–ZrO2–HfO2. Одержано дисперсійні залежності показників заломлення та коефіцієнтів екстинкції за допомогою оптико-рефрактометричного синтезу спектрів пропускання. Для опису та аналізу дисперсійних залежностей показників заломлення використано оптико-рефрактометричне співвідношення. Вивчено концентраційну поведінку ширини оптичної псевдощілини та показників заломлення тонких плівок системи TiO2–ZrO2–HfO2. Досліджено вплив композиційного розупорядкування на край оптичного поглинання тонких плівок.

 

Посилання

Ritter E., Appl. Optics 15 (1976) 2318.

Robertson J., Vac J. Sci. Technol. B 18 (2000) 1785.

Gilo M., Croitoru N., Thin Solid Films 350 (1999) 203.

Alvisi M., Di Giulio M., Marrone S.G., Perrone M.R., Protopapa M.L., Valentini A., Vasanelli L., Thin Solid Films 358 (2000) 250.

Alvisi M., De Tomasi F., Perrone M.R., Protopapa M.L., Rizzo A., Sarto F., Scaglione S., Thin Solid Films 396 (2001) 44.

Chow R., Falabella S., Loomis G.E., Rainer F., Stolz C.J., Kozlowski M.R., Appl. Opt. 32 (1993) 5567.

Waldorf A.J., Dobrowolski J.A., Sullivan B.T., Plante L.M., Appl. Opt. 32 (1993) 5583.

Kuster H., Ebert J., Thin Solid Films, 70, 43 (1980).

Pulker H.K., Thin Film Science and Technology. Vol. 6, Elsevier, Amsterdam, 1984.

Hagfeldt A., Grätzel M., Chem. Rev., 95, 49 (1995).

Lin H.M., Keng C.H., Tung C.Y., Nanostructured Mater, 9, 747 (1997).

Xagas A.P., Androulaki E., Hiskia A., Falaras P., Thin Solid Films, 357, 173 (1999).

Arabatzis I.M., Antonaraki S., Stergiopoulos T., Hiskia A., Papaconstantinou E., Bernard M.C., Falaras P., J. Photochem. Photobiol. A: Chemistry, 149, 237 (2002).

Arabatzis I.M., Stergiopoulos T., Bernard M.C., Labou D., Neophytides S.G., Falaras P., Applied Catalysis B: Environmental, 42, 187 (2003).

Wendel H., Holzschuh H., Suhr H., Erker G., Dehnicke S., Mena M., Modern Phys. Lett. B 4 (1990) 1215.

Paterl A.M., M.Spector, Biomaterials 18 (1997) 441.

Ritala M., Leskela M., Appl. Surf. Sci. 75 (1994) 333.

Cao G.-Z., Brinkman H.W., Meijerink J., K.J.De Vries, Burgraaf A.J., Am J. Ceram. Soc. 76 (1993) 2201.

Julien C. Mat.Sci.and Engineering B6 (1990) 9.

Sasaki K., Maier J., Solid State Ionics 134 (2000) 303.

Kruschwitz J.D.T., Pawlewicz W.T. Appl. Optics 36 (1997) 2157.

Cameron M., George S.M. Thin Solid Films 348 (1999) 90.

Krishna M.G., Rao K.N., Mohan S. Appl. Phys. Lett. 57 (1990) 557.

Fu X.Z., Clark L.A., Yang Q., Anderson M.A. Eviron. Sci. Technol., 30, 647 (1996).

Lin S.W., Song C.F., Lu M.K., Gu F., Wang S.F., Xu D., Yuan D.R., Wang C. Mat. Sci. and Engineering: B, 104, 49 (2003).

Copel M., Gribelyuk M., Gusev E. Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 436.

Colpo P., Ceccone F., Sauvageot P., Baker M., Rossi F., Vac J. Sci. Technol. A 18 (2000) 1096.

Jeon T.S., White J.M., Kwong D.L. Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 368.

Chang J.P., Lin Y.-S., Chu K., Vac J. Sci. Technol. B 19 (2001) 1782.

Cho B.-O., Wang J., Sha L., Chang J.P., Appl. Phys. Lett. 80 (2002) 1052.

Cho B.-O., Lao S. X., Chang J.P., J. Appl. Phys. 93 (2003) 935.

Zhu W.J., Ma T.P., Tamagawa T., Kim J., Di Y. IEEE Electron Device Lett. 23 (2002) 97.

Lee H., Jeon S., Hwang H. Appl. Phys. Lett. 79 (2001) 2615.

Xu Z., Houssa M., De Gendt S., Heyns M. Appl. Phys. Lett. 80 (2002) 1975.

Cho M.-H., Roh Y.S., Whang C.N., Jeong K., Nahm S.W., Ko D.-H., Lee J.H., Lee N.I., Fujihara K. Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 472.

Lin Y.-S., Puthenkovilakam R., Chang J.P. Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 2041.

Pecharroman C., Ocana M., Serna C.J. J. Appl. Phys. 80 (1996) 3479.

Hirata T. Phys. Rev.B 50 (1994) 2874.

Aarik J., Aidla A., Kiisler A.-A., Uustare T., Sammelselg V. Thin Solid Films 340 (1999) 110.

Nishide T., Honda S., Matsuura M., Ide M. Thin Solid Films 371 (2000) 61.

Alvisi M., Scaglione S., Martelli S., Rizzo A., Vasanelli L. Thin Solid Films 354 (1999) 19.

Baumeister P., Arnon O. Appl. Optics 16 (1977) 439.

Yu J.J., Fang Q., Zhang J.-Y., Wang Z.M., Boyd I.W. Appl. Surf. Science 208-209 (2003) 676.

Shewchun J., Rowe E.C. J. Appl. Phys. 41 (1970) 4128.

Dobrowolski I.A., Ho F.C., Waldort A. Appl. Optics 22 (1983) 3191.

Moss T.S. Phys. Stat. Sol. (b) 131 (1985) 415.

Ravindra N.M., Srivastava V.K. Infrared Phys. 19 (1979) 603.

Penn D.R. Phys. Rev. 128 (1962) 2093.

Wemple S.H. Phys. Rev. B 7 (1973) 3767.

Wemple S.H., Di Domenico M. Phys. Rev. B 3 (1971) 1338.

Ravindra N.M., Auluck S., Srivastava V.K. Phys. Stat. Sol.(b) 93 (1979) K155.

Gupta V.P., Ravindra N.M. Phys.Stat.Sol.(b) 100 (1980) 715.

Borets A.N. Ukr. Fiz. Zhurn. 28 (1983) 1346. (In Ukrainian)

Studenyak I.P., Kranjčec M., Nahusko O.T., Borets O.M. Ukr. J. Phys. Opt. 4 (2003) 139.

Studenyak I.P., Kranjčec M., Kovacs G.S., Panko V.V., Azhnyuk Y.M., Desnica I.D., Borets O.M., Voroshilov Y.V. Materials Science and Engineering B 1998;52:202-207.

Studenyak I.P., Kranjčec M., Kovacs G.S., Panko V.V., Desnica D.I., Slivka A.G., Guranich P.P. J. Phys. Chem. Solids 60 (1999) 1897.

Luca D, Hsu L.S. J Optoelect Adv Mat 2003;5:835-840.

Samuel L., Brada Y., Burger A., Roth M. Phys Rev B 1987; 36:1168-1173.

Skumanich A., Frova A., Amer N.M. Solid State Commun 1985;54:597-601.

Aulika I., Zauls V., Kundzins K., Kundzins M., Katholy S. J. Opt. Adv. Mat. 5 (2003) 755.

Studenyak I.P., Mitrovcij V.V., Kovacs Gy.Sh., Mykajlo O.A., Gurzan M.I., Vysochanskii Yu.M. Ferroelectrics 254 (2001) 295.

Studenyak I.P., Mykajlo O.A., Stephanovich V.O., Gurzan M.I., Vysochanskii Yu.M., Cajipe V.B. Phys. Stat. Sol.(a) 198 (2003) 487.

Studenyak I.P., Mykajlo O.A., Vysochanskii Yu.M., Cajipe V.B. J. Phys.: Condens. Matter. 15 (2003) 6773.

Studenyak I.P., Kranjcec M., Kovacs Gy.S., Desnica-Frankovic I.D., Panko V.V., Slivka V.Yu. Mat. Res. Bull. 36 (2001) 123.

Studenyak I.P., Kranjcec M., Kovacs Gy.Sh., Desnica I.D., Panko V.V., Slivka V.Yu. Journal of Materials Research 16 (2001) 1600.

Bindemann R., Paetzold O. Phys. Stat. Sol. (b) 160 (1990) K183.

Tinoco T., Quintero M., Rincon C. Phys. Rev. B, 44, 1613 (1991).

Jaffe E., Zunger A. Phys. Rev. B, 29, 1882 (1984).

##submission.downloads##

Опубліковано

2009-12-31

Номер

Том 26 (2009)

Розділ

Статті

Ліцензія

Авторське право (c) 2009 Науковий вісник Ужгородського університету. Серія Фізика

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.

Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:
    1. Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
    2. Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
    3. Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).