Бар’єри Шотткі на основі структур Al-CdTe:V

Автор(и)

  • C. Ю. Паранчич Чернівецький національний університет імені Юрія Федьковича, Україна
  • Ю. В. Танаскж Чернівецький національний університет імені Юрія Федьковича, Україна

DOI:

https://doi.org/10.24144/2415-8038.2001.10.130-133

Анотація

Виготовлено та досліджено властивості структур метал-напівпровідник на основі AI-CdTe:Vз концентрацією легуючої домішки NV=5x10l8-5xl019см-3. Представлено ВАХ для одержаних зразків в тому числі при різних зовнішніх температурах. Згідно з одержаними результатами, зразки на основі CdTe-.Vз концентрацією ванадію NV=5х1018 см-3 мали чітко виражені випрямляючі властивостями. Висота потенціального бар’єру для CdTe:Vз NV=5x1018cm-3знаходилася в межах 0.7-0.78 еВ. В той же час, для зразків Al-CdTe:Vз NV=5x1019cm-3 вимірювані ВАХ були строго лінійними та симетричними відносно початку координат, що є свідченням про створення якісного омічного контакту Аl до CdTe:V, питомий опір якого для різних структур становив 7х103±1.2 х10-2Омсм2.

Посилання

Ю.П.Гнатенко, Р.В.Гамерник, И.А.Фарина, П.И.Бабий, ФTТ40, 1216 (1998).

Л.А.Косяченко, И.М.Раренко, О.А.Боднарук, Вейгуа Сун, ФТП 33, 1438 (1999).

А.Милнс, Д.Фойхт. Гетеропереходы и переходы метал-полупроводник (Мир, Москва, 1975).

В.В.Пасынков, Л.К.Чиркин, А.Д.Шинков. Полупроводниковые приборы (Высшая школа, Москва, 1981).

S.Nozaki, A.G.Milnes, J. El. Mater. 14, 137(1985).

##submission.downloads##

Опубліковано

2001-12-31

Номер

Розділ

Статті