Vacuum deposition rate and optical quality of the As<sub>2</sub>S<sub>3</sub> films
DOI:
https://doi.org/10.24144/2415-8038.2015.37.89-97Keywords:
Vacuum evaporation, As2S3 film, refractory index, ellipsometry methodAbstract
Using the ellipsometry method, the comlex refractory index (N=n-ik) and the As2S3 film thickness have been measured. The above films were produced by the vacuum evaporation deposition at different rates onto the substrate. It has been found that the most thin films produced at the less deposition rate agree better in n with the initial values for the As2S3 glass, and, thus, the better optical quality. This is explained by the presence of the inhomogeneity at the level of dimensions less than the wavelength, or even by the nanodimensional inhomogeneity that in these measurements reveal the anisotropic medium property, as well as by the formation of the structurally non-uniform transient contact layers with less refractive index value.
References
Эллипсометрия: теория, методы, приложения (материалы конференции, 9-11 июля 1985 г.). / Отв.ред. Ржанов А.В., Ильина Л.А. – Новосибирск: Наука, 1987. – 191 с.
Швец В.А., Спесивцев Е.В., Рыхлицкий С.В., Михайлов Н.Н. Эллипсометрия – прецизионный метод контроля тонкопленочных структур с субнанометровым разрешением // Российские нанотехнологии. – 2009. – Т.4, №3-4. – С.72-84.
Михайлов Н.Н., Сидоров. Ю.Г., Дворецкий С.А. и др. Изучение процессов адсорбции и десорбции теллура на поверхности CdTe методом эллипсометрии // Автометрия. – 2000.– №4.– С.124.
Рыхлицкий С.В., Швец В.А., Спесивцев Е.В., Михайлов Н.Н. Эллипсометрия физико-химических процессов на межфазных границах // Конденсированные среды и межфазные границы. – 2006. – Т.8, №4. – С.327.
Урывский Ю.И. Эллипсометрия. – Воронеж: изд-во ВГУ, 1971. – 131 с.
Поперенко Л.В., Стащук В.С., Шайкевич І.А., Одарич В.А. Діагностика поверхні поляризованим світлом: Монографія. – К.: ВПЦ “Київський університет”, 2007. – 336 с.
Азаам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет. – Москва: Мир, 1981. – 583 с.
Жихарєв В.М., Козак М.І., Бобик М.Ю., Сейковський І.Д. Еліпсометричні дослідження оптичних констант легованого і опроміненого халькогенідного скла As2S3 // Наук. вісник УжНУ. Серія Фізика. – 2004.– Вип.16. – С. 31-37.
Назаренко И.Н., Дорофеев Д.Л. Решение обратной задачи эллипсометрии для слоя с изменяющимся по толщине комплексным показателем преломления // Вестник Воронежского государственного университета. Серия химия, биология. – 2001. – № 1. – С.164–169.
Половинкин В.Г., Свиташева С.Н. Определение числа решений обратной задачи эллипсометрии в заданной области параметров // Автометрия. – 1999. – № 4. – С. 94–104.
Коструба А.М., Влох О.Г. Комплексный метод определения трех параметров поглощающих тонких пленок //Спектроскопия твердого тела. – 1996. – Т.80, №6. – С. 920–924.
Дагман Э.Е. Полное решение обратной задачи эллипсометрии для однослойной системы при вариации толщины и угла падения света // Оптика и спектроскопия. – 1988. – Т.65, Вып.5. – С. 1150–1155.
Козак М.И., Биланич Р.М., Жихарев В.Н. Эллипсометрическое исследование оптических параметров сегнетоэлектрических твердых растворов (PbуSn1-y)2P2S6 //Наук. вісник УжНУ. Серія Фізика. –2013.–Вип.34. – С. 28-33.
Жихарєв В.М., Козак М.І., Сейковський І.Д. Еліпсометричне дослідження оптичної однорідності тонких плівок халькогенідного скла As2S3 // Наук. вісник УжНУ. Серія Фізика. –2004. – Вип.16. – С. 59-66.
Козак М.И., Жихарев В.Н., Лоя В.Ю., Студеняк И.П., Шпак И.И., Турок И.И. Эллипсометрическое исследование релаксационных изменений оптических констант и степени неоднородности тонких пленок стеклообразного As2S3 //Письма в ЖТФ. –2006. –Т.32. –Вып.10. –С.82-87.
Козак М. И., Жихарев В. Н., Студеняк И. П., Сейковский И. Д. Эллипсометрическое определение оптических констант тонких пленок стеклообразного As2S3 в области слабого поглощения // Опт. и спектр. –2006. –Т.101.–№4.–С.604-606.
Downloads
Published
Issue
Section
License
Copyright (c) 2015 Uzhhorod University scientific herald. Series Physics
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Authors who publish with this journal agree to the following terms:- Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).
