Photoinduced relaxation nanohardness amorphous films Gе<sub>40</sub>Sе<sub>60</sub>

Authors

  • В. В. Кузьма Uzhhorod national university, Ukraine
  • В. С. Біланич Uzhhorod national university, Ukraine
  • T. Чонаді Slovak Academy of Sciences, Institute of Materials Research, Slovakia
  • Ф. Лофай Slovak Academy of Sciences, Institute of Materials Research, Slovakia
  • M. Новак Slovak Academy of Sciences, Institute of Materials Research, Slovakia
  • Д. Немет Slovak Academy of Sciences, Institute of Materials Research, Slovakia
  • В. Ю. Лоя Institute of Electron Physics NAS Ukraine, Ukraine
  • В. М. Різак Uzhhorod national university, Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.24144/2415-8038.2015.37.123-127

Keywords:

Nanohardness, pphotoinduced changes, thinks film, chalcogenide glasses, Ge-As-Se

Abstract

The results of research nanohardness of amorphous films Ge40Se60 irradiated with a laser beam with a wavelength of 655 nm. The exponential nanohardness decrease of Ge40Se60 film during laser irradiation and nanohardness increase, similar to the original value after termination of exposure, were found. The numerical value of relaxation options for photoinduced changes of nanohardness was found. The correlation dynamics of photoinduced changes of nanohardness for the same process, which was identified in the study "in situ" changes of microhardness of Ge40Se60 film, was showed under similarexperimental conditions. The results are explained under the intramolecular photoinduced plasticity model.

References

Д.Г. Семак, В.М. Різак, І.М. Різак. Фото- і термоструктурні перетворення халькогенідів. – Ужгород: Закарпаття, 1999. – 392 с.

Trunov M.L., Bilanich V.S., Polarization dependent photoplastic effect in As50Se50 chalcogenide glasses // Journal of Optoelectronics and Advanced Materials. –2004. - Vol.6, No.1. - Р.157–162.

Кузьма В.В., Біланич В.С., Flachbart K., Lofaj F., Csach K., Різак В.М. Фотоіндуковані зміни мікротвердості аморфних тонких плівок системи Ge-As-Se // Науковий вісник Ужгородського університету. Серія: Фізика. -2014. –Вип.36. –С.51–57.

Мешалкин А. Ю. Цифровой метод измерения толщины нанометровых пленок на базе микроинтерферометра МИИ-4. // Электронная обработка материалов. – 2012. – Т.48. №6. – C.114–118.

Биланич В. С., Lofaj F., Flachbart К., Csach К., Кузьма В. В., & Ризак В. М. (2014). Наноиндентирование аморфных пленок системы Ge−As−Se. Физика твердого тела, Т.56. -№6. -С.1118-1122.

Трунов М. Л., Биланич В. С., Дуб С. Н. (2008). Исследование фотопластического эффекта в стеклообразных полупроводниках методом циклического наноиндентирования. Физика твердого тела, Т.50. -№11. -С.1978-1983.

Биланич В. С., Кикемезей С. С., Ризак И. М., Ризак В. М. Исследование динамики и механизмов деформирования тонких халькогенидных пленок As(Ge)2Se3 методом наноиндентирования // Физика твердого тела. – 2011. –Т. 53. – №11. -c.2200-2203.

Trunov M.L., Lytvyn P.M., Nagy P.M., Dyachyns’ka O.M. Real-time atomic force microscopy imaging of photo-induced surface deformation in AsxSe100−x chalcogenide films // Applied Physics Letters. - 2010. V.96. - №11. – Р.111908.

Bilanych V., Komanicky V., Feher A., Kuzma V., Rizak V. Electron-beam induced surface relief shape inversion in amorphous Ge4As4Se92 thin films // Thin Solid Films. – 2014. – 571. – Р.175-179.

Біланич В.С., Онищак В.Б., Різак І.М., Чах K., Флахбарт K., Різак В.М. Дослідження стекол GexAsySe100-x-y методом диференціальної скануючої калориметрії // Науковий вісник Ужгородського університету. Серія: Фізика. – 2009. – Вип. 25. – С.24-30.

Published

2015-07-01

Issue

Section

Статті