Дослідження анодних процесів при розробці нового комплексного тіокарбідно-цитратного елекроліту
DOI:
https://doi.org/10.15587/1729-4061.2018.123852Ключові слова:
комплексні сполуки, анодна поляризація, лімітуюча стадія, дифузійна перенапруга, поляризаційна залежністьАнотація
Досліджено кінетику анодних реакцій на міді у тіокарбамідно-цитратних розчинах. Встановлено, що анодне розчинення металу приводить до появи комплексних сполук одновалентної міді. Тіокарбамід утворює з міддю комплекс катіонного типу. Лимонна кислота забезпечує кисле значення рН та сприяє активному розчиненню міді. Результати проведених досліджень показують, що анодне розчинення міді відповідає закономірностям дифузійної кінетики
Посилання
- Huang, C. A., Chang, J. H., Hsu, F. Y. (2006). Electrocrystallization behavior of copper electrodeposited from aqueous sulfuric acid with thiourea and chloride additives. ECS Transactions, 2 (3), 329–334. doi: 10.1149/1.2196021
- Donepudi, V. S., Venkatachalapathy, R., Ozemoyah, P. O., Johnson, C. S., Prakash, J. (2001). Electrodeposition of Copper from Sulfate Electrolytes: Effects of Thiourea on Resistivity and Electrodeposition Mechanism of Copper. Electrochemical and Solid-State Letters, 4 (2), C13. doi: 10.1149/1.1342144
- Tantavichet, N., Pritzker, M. D. (2006). Aspects of copper electrodeposition from acidic sulphate solutions in presence of thiourea. Transactions of the IMF, 84 (1), 36–46. doi: 10.1179/174591906x10529
- Tantavichet, N., Damronglerd, S., Chailapakul, O. (2009). Influence of the interaction between chloride and thiourea on copper electrodeposition. Electrochimica Acta, 55 (1), 240–249. doi: 10.1016/j.electacta.2009.08.045
- Aravinda, C. L., Mayanna, S. M., Muralidharan, V. S. (2000). Electrochemical behaviour of alkaline copper complexes. Journal of Chemical Sciences, 112 (5), 543–550. doi: 10.1007/bf02709287
- Lizama-Tzec, F. I., Canché-Canul, L., Oskam, G. (2011). Electrodeposition of copper into trenches from a citrate plating bath. Electrochimica Acta, 56 (25), 9391–9396. doi: 10.1016/j.electacta.2011.08.023
- Wu, W.-G., Yang, F.-Z., Luo, M.-H., Tian, Z.-O., Zhou, S.-M. (2010). Electrodeposition of copper in a citrate bath and its application to a micro-electro-mechanical system. Acta Physico-Chimica Sinica, 26 (10), 2625–2632.
- Smirnova, O. L., Kutenko, Yu. L., Lazarenko, E. S. (2013). Anodnoe povedenie metallov podgruppy medi v kislyh tiokarbamidno-citratnyh rastvorah. Visnyk NTU «KhPI», 47 (1020), 121–128.
- Matrunchik, O. L., Belyak, M. A., Smirnova, O. L. (2016). Elektrodnye processy na mednom i serebryanom elektrodah v rastvorah na osnove organicheskih ligandov. Materialy X Mizhnarodnoi naukovo-praktychnoi studentskoi konferentsiyi mahistrantiv NTU «KhPI». Ch. 2. Kharkiv: NTU «KhPI», 237–238.
- Podchaynova, V. N., Simonova, L. N. (1990). Med' (Analiticheskaya himiya elementov). Moscow: Nauka, 279.
- Hamada, Y., Cox, R., Hamada, H. (2015). Cu2+-Citrate Dimer Complexes in Aqueous Solutions. Journal of Basic & Applied Sciences, 11, 583–589. doi: 10.6000/1927-5129.2015.11.78
- Kim, M. J., Choe, S., Kim, H. C., Cho, S. K., Kim, S.-K., Kim, J. J. (2015). Electrochemical Behavior of Citric Acid and Its Influence on Cu Electrodeposition for Damascene Metallization. Journal of the Electrochemical Society, 162 (8), D354–D359. doi: 10.1149/2.0561508jes
- Smirnova, O. L., Kutenko, Yu. L., Koval'chuk, A. S., Matrunchik, O. L. (2014). Elektrodnye processy na mednom elektrode v kislyh tiokarbamidno-citratnyh rastvorah. Visnyk NTU «KhPI», 28 (1071), 135–142.
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2018 Olha Smirnova, Alexei Pilipenko, Hanna Pancheva, Alexei Zhelavskyi, Kateryna Rutkovska
![Creative Commons License](http://i.creativecommons.org/l/by/4.0/88x31.png)
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Закріплення та умови передачі авторських прав (ідентифікація авторства) здійснюється у Ліцензійному договорі. Зокрема, автори залишають за собою право на авторство свого рукопису та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons CC BY. При цьому вони мають право укладати самостійно додаткові угоди, що стосуються неексклюзивного поширення роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом, але за умови збереження посилання на першу публікацію статті в цьому журналі.
Ліцензійний договір – це документ, в якому автор гарантує, що володіє усіма авторськими правами на твір (рукопис, статтю, тощо).
Автори, підписуючи Ліцензійний договір з ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР», мають усі права на подальше використання свого твору за умови посилання на наше видання, в якому твір опублікований. Відповідно до умов Ліцензійного договору, Видавець ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР» не забирає ваші авторські права та отримує від авторів дозвіл на використання та розповсюдження публікації через світові наукові ресурси (власні електронні ресурси, наукометричні бази даних, репозитарії, бібліотеки тощо).
За відсутності підписаного Ліцензійного договору або за відсутністю вказаних в цьому договорі ідентифікаторів, що дають змогу ідентифікувати особу автора, редакція не має права працювати з рукописом.
Важливо пам’ятати, що існує і інший тип угоди між авторами та видавцями – коли авторські права передаються від авторів до видавця. В такому разі автори втрачають права власності на свій твір та не можуть його використовувати в будь-який спосіб.