Сучасні лазерні твердофазні технологічні процеси в субмікронній технології ВІС

Автор(и)

  • Степан Петрович Новосядлий Кафедра радіофізики і електроніки Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника м. Івано-Франківськ, Україна
  • Андрій Іванович Терлецький Кафедра радіофізики і електроніки Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника м. Івано-Франківськ, Україна
  • Оксана Богданівна Фрик Кафедра радіофізики і електроніки Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника м. Івано-Франківськ, Україна

DOI:

https://doi.org/10.15587/1729-4061.2010.2865

Ключові слова:

лазерно-стимульована дифузія, твердофазні процеси, кремній, галію арсенід, ВІС

Анотація

Розглянуто фізичні процеси при лазерно-стимульованій твердофазній дифузії домішок в напівпровідникові матеріали та метали. Наведено приклади застосування таких процесів для вирішення конкретних технологічних задач напівпровідникової електроніки.

Біографії авторів

Степан Петрович Новосядлий, Кафедра радіофізики і електроніки Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника м. Івано-Франківськ

Доктор технічних наук, професор, завідувач кафедри

Андрій Іванович Терлецький, Кафедра радіофізики і електроніки Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника м. Івано-Франківськ

Кандидат фізико-математичних наук, асистент

Оксана Богданівна Фрик, Кафедра радіофізики і електроніки Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника м. Івано-Франківськ

Інженер

Посилання

  1. Валиев К.А. Микроэлектронные достижения и пути развития. – М: Наука – 1986 – 205с.
  2. Новосядлий С.П. Фізико-технологічні основи субмікронної технології ВІС – Івано-Франківськ: Сімик – 2003 – 351с.
  3. Волков В.А. Современные проблемы сборки и герметизации микроэлектронных устройств//Электронная промышленность – 1990 - №2, с 11-14.
  4. Никифорова-Денисова С.Н., Пименов С.А., Хитро Е.П. Снижение дефектности в кремниевых пластинах с помощью лазерного гетерирования//Электронная техника, с.Микроэлектроника – 1989 – вып 4(133) – с 24-27.
  5. Курило І.В., Новосядлий С.П. Фізико-хімічні особливості субмікронної оптичної літографії ВІС//Вісник ДУ “Львівська політехніка”. Хімія, технологія речовин та їх застосування. – 2000 - №390 – с 51-54.
  6. Новосядлий С.П. Активація домішок в субмікронній технології формування структур ВІС// Металофізика і новітні технології – 2002 – Т24, №6 – с 777-794.
  7. Новосядлий С.П. Шляхи підвищення роздільної здатності проекційної літографії// Металофізика і новітні технології – 2002 – Т24, №8 – с 1073-1082.
  8. Новосядлий С.П., Возняк Ю.В., Сорохтей Т.Р. Фізико-технологічні особливості формування комплементарних арсенід-галієвих субмікронних структур ВІС// Збірник наукових праць 2-ої міжнародної конференції “Электронная компонентная база. Состояние и перспективы развития” – Харків – 2009 – с 111-113.
  9. Новосядлий С.П., Вівчарук В.М. Багатозарядна радіаційна імплантація при формуванні SOI-структур//Фізика і хімія твердого тіла/ - 2008. – Т9, №3 с 659-667.

##submission.downloads##

Опубліковано

2010-05-28

Як цитувати

Новосядлий, С. П., Терлецький, А. І., & Фрик, О. Б. (2010). Сучасні лазерні твердофазні технологічні процеси в субмікронній технології ВІС. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 3(7(45), 52–60. https://doi.org/10.15587/1729-4061.2010.2865