Моделювання субмікронної та нанотехнологій на основі тестових структур

Authors

  • Степан Петрович Новосядлий Кафедра радіофізики та електроніки Прикарпатський національний університет ім. Василя Стефаника м. Івано-Франківськ, Ukraine
  • В. М. Вивчарук Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника вул. Шевченко, 57, м. Івано-Франківськ, Україна, 76000, Ukraine
  • С. М. Вертепний Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника вул. Шевченко, 57, м. Івано-Франківськ, Україна, 76000, Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15587/1729-4061.2009.3182

Abstract

Розглянуто структуру тесто-вого контролю (ТК) технологічного процесу формування структур великих інтегральних схем, сформовані задачі ТК, проведена класифікація тестових структур, наведені приклади тестових кристалів та способи їх застосування

Author Biographies

Степан Петрович Новосядлий, Кафедра радіофізики та електроніки Прикарпатський національний університет ім. Василя Стефаника м. Івано-Франківськ

Доктор технічних наук, професор, завідуючий кафедрою

В. М. Вивчарук, Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника вул. Шевченко, 57, м. Івано-Франківськ, Україна, 76000

Аспірант

Кафедра «Радіофізики та електроніки»

С. М. Вертепний, Прикарпатський національний університет ім. В.Стефаника вул. Шевченко, 57, м. Івано-Франківськ, Україна, 76000

Аспірант

Кафедра «Радіофізики та електроніки»

References

  1. Новосядлий С.П. Фізико-технологічні основи субмікронної технології ВІС. Івано-Франківськ: Сімик – 200-3р – 351с.
  2. Буденников А.Н., Садовников Н.Д. Проблемы физико-технологического моделирования субмикронных элементов СБИС// Зарубежная радиоэлектроника – 1987 - №3 – с18 – 24.
  3. Новосядлий С.П. Технологічна САПР на основі тестових структур//Фізика і хімія твердого тіла – 2002 – Т3, №1 с179-189.
  4. Герасимова А.С. Использование тестовых структур в производстве интегральных схем // Зарубежная радиоэлектроника – 1988 - №10 – с53-62.
  5. C.Alcorn, D.Dvorak, W.Handad Kerf Test Structure Designs for Proces and Device Characterization//Solid St. Technology – 1985, №4- p229-235.
  6. Новосядлий С.П. Математичне моделювання технологічних процесів формування структур ВІС та електрофізичне діагностування їх надійності // Вісник ДУ «Львівська політехніка» комп’ютерні системи проектування. Теорія і практика.- 1999 - №373 – с58-62.
  7. Новосядлий С.П. Електрофізичне діагностування надійності структур ВІС // Вісник ДУ «Львівська політехніка» №367 Радіоелектроніка та телекомунікації – 1999 – с.187-197.
  8. Новосядлий С.П. Аналітичні фізико-хімічні методи аналізу і контролю в системній технології ВІС // Вимірювальна та обчислювальна техніка в технологічних процесах – 1999 -№3 с.30-38.
  9. Новосядлий С.П. Тестовий контроль електрофізичних параметрів структур в системній технології високого рівня // Вимірювальна та обчислювальна техніка в технологічних процесах – 1999 - №2 – с. 58-64.
  10. Новосядлий С.П., Запухляк Р.І., Мельник П.І. Прогнозування надійності структур ВІС за допомогою імпульсних нерівноважних вольт-фарадних характеристик // Фізика і хімія твердого тіла – 2005 – Т6 №2 с.153-160.
  11. Мельник П.І., Новосядлий С.П., Бережанський В.П., Вівчарук В.М. Спектрометрія в субмікронній технології ВІС//Фізика і хімія твердого тіла – 2007 №4, т8 – с791-801.

Published

2009-02-04

How to Cite

Новосядлий, С. П., Вивчарук, В. М., & Вертепний, С. М. (2009). Моделювання субмікронної та нанотехнологій на основі тестових структур. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 1(7(37), 26–38. https://doi.org/10.15587/1729-4061.2009.3182