Influencе of carbon atoms on formation of impurity complexes in silicon single crystals

Authors

  • Юрій Васильович Реков PJSC «Plant of Semiconductors" Street. Greenhouse, 16, Zaporozhye, Ukraine, 69600, Ukraine
  • Іван Федорович Червоний Zaporozhye State Engineering Academy Lenina 226, Zaporozhye, Ukraine, 69006, Ukraine
  • Євген Якович Швець Zaporozhye State Engineering Academy Lenina 226, Zaporozhye, Ukraine, 69006, Ukraine
  • Юрій Вікторович Головко Zaporozhye State Engineering Academy Lenina 226, Zaporozhye, Ukraine, 69006, Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15587/1729-4061.2012.5577

Keywords:

Silicon, single crystal, carbon, impurity complex

Abstract

It is experimentally established, that during growth of dislocations-free silicon single crystals  on method Czochralski owing to change of a ratio of impurity concentration there is an activization of participation of  carbon atoms  in  impurity complexes  formation

Author Biographies

Юрій Васильович Реков, PJSC «Plant of Semiconductors" Street. Greenhouse, 16, Zaporozhye, Ukraine, 69600

Graduate student

General manager

Іван Федорович Червоний, Zaporozhye State Engineering Academy Lenina 226, Zaporozhye, Ukraine, 69006

Doctor of Technical Sciences, professor, head of

Department of Non-Ferrous Metallurgy

Євген Якович Швець, Zaporozhye State Engineering Academy Lenina 226, Zaporozhye, Ukraine, 69006

Ph.D., professor, rector

Юрій Вікторович Головко, Zaporozhye State Engineering Academy Lenina 226, Zaporozhye, Ukraine, 69006

Ph.D., Associate Professor

Department of Physical and Biomedical Electronics

References

  1. Проспект фирмы МЕМС, 1994-1995. – 12 с.
  2. Wijaranacula W. Numerical modeling of the point defect aggregation during the Czochralski silicon crystal growth / W. Wijaranacula // Journal of electrochemical society. – 1992. - Vol. 139, № 2. - P. 604-616.
  3. Червоний І.Ф. Напівпровідниковий кремній: теорія і технологія виробництва / І.Ф. Червоний , В.З. Куцова, В.І. Пожуєв, Є.Я. Швець, О.А. Носко, С.Г. Єгоров, Р.М. Воляр. – Запоріжжя: Видавництво ЗДІА, 2009. – 488 с.
  4. Червоний, І.Ф. Управління концентрацією кисню під час вирощування монокристалів кремнію / І.Ф. Червоний, Є.Я. Швець, О.П. Головко, Р.М. Воляр // Металургія: Збірник наукових праць ЗДІА. - Запоріжжя: ЗДІА, 2005. – Вип. 11. – С. 63-69.
  5. Швец Е.Я., Головко Ю.В. Исследование распределения углерода между расплавом, твёрдой и газовой фазами в процессе выращивания монокристаллов кремния / Металургія. Збірник наукових праць ЗДІА. - Запоріжжя: ЗДІА, 2008. – Вип. 17. – С. 104-108.
  6. ASTM F1391. Standard test method for substitutional atomic carbon content of silicon by infrared absorption // Annual Book of ASTM Standards.Vol.10.05 (1997).
  7. Швець Є.Я., Головко Ю.В. Вплив комплексоутворення на коефіцієнти розподілу домішок у процесі вирощування монокристалів кремнію / Металургія. Збірник наукових праць ЗДІА. - Запоріжжя: ЗДІА, 2011. – Вип. 25. – С. 124 – 131.
  8. ASTM F1727. Standard practice for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers // Annual Book of ASTM Standards.Vol.10.05 (1997).
  9. Рейви К. Дефекты и примеси в полупроводниковом кремнии; пер. с англ. – М.: Мир, 1984. – 475 с.

Published

2012-12-13

How to Cite

Реков, Ю. В., Червоний, І. Ф., Швець, Є. Я., & Головко, Ю. В. (2012). Influencе of carbon atoms on formation of impurity complexes in silicon single crystals. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 4(5(58), 24–27. https://doi.org/10.15587/1729-4061.2012.5577