Розробка комплексу нелінійних систем управління іонно-плазмовою установкою

Автор(и)

  • Kateryna Kyrkopulo Одеський національний політехнічний університет пр. Шевченка, 1, м. Одеса, Україна, 65044, Україна https://orcid.org/0000-0001-5570-5989
  • Vladimir Tonkonogyi Інститут промислових технологій, дизайну та менеджменту Одеський національний політехнічний університет пр. Шевченка, 1, м. Одеса, Україна, 65044, Україна https://orcid.org/0000-0003-1459-9870
  • Oleksii Stopakevych Одеській національний політехнічний університет пр. Шевченка, 1, м. Одеса, Україна, 65044, Україна https://orcid.org/0000-0002-8318-6853
  • Andrii Stopakevych Одеська національна академія зв’язку ім. О. С. Попова вул. Кузнечна, 1, м. Одеса, Україна, 65029, Україна https://orcid.org/0000-0003-1719-9071

DOI:

https://doi.org/10.15587/1729-4061.2018.127708

Ключові слова:

нанесення покриттів, іонне бомбування, нелінійна система управління, металорізальний інструмент, конденсація речовини

Анотація

Розроблено комплекс моделей динаміки і нелінійних систем управління всіма етапами іонно-плазмового нанесення покриттів на металорізальний інструмент. Імітаційне моделювання розроблених систем управління показало високу якість як програмно-керованих процесів; так і процесів; що стабілізують виділені технологічні параметри. Параметричний синтез використаних регуляторів вівся за компромісною методикою; що зв'язує робастність системи і швидкодію перехідного процесу при максимальних збуреннях

Біографії авторів

Kateryna Kyrkopulo, Одеський національний політехнічний університет пр. Шевченка, 1, м. Одеса, Україна, 65044

Аспірант

Кафедра інформаційних технологій проектування в машинобудуванні

Vladimir Tonkonogyi, Інститут промислових технологій, дизайну та менеджменту Одеський національний політехнічний університет пр. Шевченка, 1, м. Одеса, Україна, 65044

Доктор технічних наук, професор, директор

Oleksii Stopakevych, Одеській національний політехнічний університет пр. Шевченка, 1, м. Одеса, Україна, 65044

Кандидат технічних наук, доцент

Кафедра автоматизації теплоенергетичних процесів

Andrii Stopakevych, Одеська національна академія зв’язку ім. О. С. Попова вул. Кузнечна, 1, м. Одеса, Україна, 65029

Кандидат технічних наук, доцент

Кафедра комп’ютерно-інтегрованих технологічних процесів і виробництв

Посилання

  1. Aksenov, I. I., Belous, V. A., Strel'nickiy, V. E., Aksenov, D. S. (2016). Vakuumno-dugovoe oborudovanie i tekhnologii pokrytiy v HFTI. VANT, 4 (104), 58–71.
  2. Tonkonohyi, V. M. (2004). Systema avtomatyzovanoho upravlinnia tekhnolohieiu nanesennia znosostiykykh ionno-plazmovykh pokryt. Visnyk Zhytomyrskoho derzhavnoho tekhnolohichnoho universytetu, 1 (28), 141–145.
  3. Marszałek, K., Małek, A., Winkowski, P., Woźny, K. (2016). LabVIEW controller for storage results and control parameters of low thickness antireflection coatings deposition processes. Elektronika – Konstrukcje, Technologie, Zastosowania, 57 (2), 31–34. doi: 10.15199/13.2016.2.6
  4. Tanaram, T., Thungsuk, N., Apirat, H., Mungkung, N., Okamura, Y., Yuji, T. (2016). Preparation of ZnO thin film by development low-pressure high-frequency plasma chemical vapor deposition system. International Journal of Materials Engineering, 6 (5), 155–158.
  5. Carter, D., Walde, H., McDonough, G., Roche, G. (2002). Parameter Optimization in Pulsed DC Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide. Society of Vacuum Coaters. 45th Annual Technical Conference Proceeding, 570–577.
  6. Danyluk, M., Dhingra, A. (2015). Rolling Contact Fatigue in a Vacuum Test Equipment and Coating Analysis. Springer, 167. doi: 10.1007/978-3-319-11930-4
  7. Yamauchi, S., Ishibashi, K., Hatakeyama, S. (2014). Low pressure chemical vapor deposition of TiO2 layer in hydrogen-ambient. Journal of Crystallization Process and Technology, 04 (04), 185–192. doi: 10.4236/jcpt.2014.44023
  8. Kostyuk, G. I. (2008). Automated system of technological support of the combined treatment based on ion implantation and ion alloying, plasma coating and laser modification. 2008 23rd International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum. doi: 10.1109/deiv.2008.4676835
  9. Danyluk, M. (2010). Process Optimization of Ion Plating Nickel-Copper-Silver Thin Film Deposition. Processing of Nanoparticle Materials and Nanostructured Films, 169–185. doi: 10.1002/9780470931011.ch15
  10. Yanwen, H. (2017). Research of arc welding intellectual PID control. Trans. of Nanya Inst. of Tech., 96, 35–46.
  11. Przybylski, J., Majcher, A. (2014). The structure and application of a test stand for a PVD technology research control system. Problemy eksploatacji. Maintenance problems, 2, 73–82.
  12. Bodyagin, A. (2009). Avtomatizirovannaya sistema upravleniya rabotoy ustanovki ionno-plazmennogo napyleniya v vakuume MAP-2. STA, 3, 52–56.
  13. Brindley, J., Williams, T., Daniel, B., Bellido-Gonzalez, V., Papa, F., Sproul, W. (2016). A novel sensor using remote plasma emission spectroscopy monitoring and control of vacuum processes. Society of vacuum coaters. 59th Annual Technical Conference, H-2.
  14. Dyadyun, K. V., Chebukina, V. F. (2016). Process naneseniya ionno-plazmennyh pokrytiy i sistemnyy podhod k upravleniyu processom. Novi materialy i tekhnolohiyi v mashynobuduvanni, 1, 7–10.
  15. Stanovskyi, O. L., Tonkonohyi, V. M., Dorus, V. O. (2004). Modeliuvannia protsesiv teploperenosu pry nanesenni ionno-plazmovykh pokryt. Visnyk Cherkaskoho derzhavnoho tekhnolohichnoho universytetu, 1, 28–32.
  16. Tonkonogiy, V. M., Savel'eva, O. S. (2004). Identifikaciya modeley processov naneseniya ionno-plazmennyh pokrytiy na rezhushchiy instrument. Holodil'naya tekhnika i tekhnologiya, 2 (88), 96–99.
  17. Lunev, V. I., Samoylov, V. P. (1980). Balans energiy i teplovye effekty pri metallizacii sverhtverdyh materialov kondensaciey plazmy. Sverhtverdye materialy, 2, 7–12.
  18. Barvinyuk, V. A., Shitarev, I. L., Bogdanovich, I. A. (2009). Srabatyvaemye, iznosostoykie i teplozashchitnye pokrytiya dlya detaley gazovogo trakta turbiny kompressora i kamery sgoraniya GTD. Aviacionnaya i raketno-kosmicheskaya tekhnika, 3 (19), 11–28.
  19. Baranov, O. O., Kostyuk, G. I. (2015). Osazhdenie kachestvennogo ravnotolshchinnogo vakuumno-dugovogo pokrytiya na tverdosplavnyy rezhushchiy instrument pri obrabotke bol'shih partiy. Vistnyk NTU «KhPI», 40 (1149), 85–89.
  20. Tonkonogiy, V. M., Oborskiy, G. A. (1997). Rabotosposobnost' i nadezhnost' instrumentov s iznosostoykimi pokrytiyami. Trudy Odesskogo politekhnicheskogo universiteta, 1, 18–23.

##submission.downloads##

Опубліковано

2018-04-03

Як цитувати

Kyrkopulo, K., Tonkonogyi, V., Stopakevych, O., & Stopakevych, A. (2018). Розробка комплексу нелінійних систем управління іонно-плазмовою установкою. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 2(2 (92), 65–74. https://doi.org/10.15587/1729-4061.2018.127708

Номер

Том 2 № 2 (92) (2018): Інформаційні технології. Системи управління в промисловості

Розділ

Системи управління в промисловості

Ліцензія

Авторське право (c) 2018 Kateryna Kyrkopulo, Vladimir Tonkonogyi, Oleksii Stopakevych, Andrii Stopakevych

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.

Закріплення та умови передачі авторських прав (ідентифікація авторства) здійснюється у Ліцензійному договорі. Зокрема, автори залишають за собою право на авторство свого рукопису та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons CC BY. При цьому вони мають право укладати самостійно додаткові угоди, що стосуються неексклюзивного поширення роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом, але за умови збереження посилання на першу публікацію статті в цьому журналі.

Ліцензійний договір – це документ, в якому автор гарантує, що володіє усіма авторськими правами на твір (рукопис, статтю, тощо).
Автори, підписуючи Ліцензійний договір з ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР», мають усі права на подальше використання свого твору за умови посилання на наше видання, в якому твір опублікований. Відповідно до умов Ліцензійного договору, Видавець ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР» не забирає ваші авторські права та отримує від авторів дозвіл на використання та розповсюдження публікації через світові наукові ресурси (власні електронні ресурси, наукометричні бази даних, репозитарії, бібліотеки тощо).
За відсутності підписаного Ліцензійного договору або за відсутністю вказаних в цьому договорі ідентифікаторів, що дають змогу ідентифікувати особу автора, редакція не має права працювати з рукописом.
Важливо пам’ятати, що існує і інший тип угоди між авторами та видавцями – коли авторські права передаються від авторів до видавця. В такому разі автори втрачають права власності на свій твір та не можуть його використовувати в будь-який спосіб.