Іонна імплантація, як спосіб підвищення експлуатаційної стійкості дрібнорозмірного сталевого інструменту
DOI:
https://doi.org/10.15587/1729-4061.2013.18437Ключові слова:
іонна імплантація, титан, хром, модифіковане покриття, мікротвердість, зносостійкість, експлуатаційна стійкістьАнотація
Методом іонної імплантації отримані модифіковані покриття нітридів титану та хрому на підкладках вуглецевої і конструкційної легованої сталей. Вивчені структура та фізичні властивості цих покриттів, а також їх використання в якості захисних покриттів на дрібно розмірному волочильному інструменті.
Посилання
- Ионная имплантация в полупроводники и другие материалы [Текст] : cб. статей / [науч. ред. Куранский Е. и др.]. – М.: Мир, 1980. – 332 с.
- Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками [Текст] / [под ред. Поута Дж. М., Фоти Г., Джекобсона Д. К. – М.: Машиностроение, 1987. – 424 с.
- Влияние высоких доз ионов N+ , N+ + Ni+ , Mo+ + W+ на физико-механические свойства TiNi [Текст] / А. Д. Погребняк, С. Н. Братушка, Л. В. Маликов [и др.] // Журнал технической физики. – 2009. – Т. 79, № 5. – С. 65 – 72.
- Ионная имплантация и лучевые технологии [Текст] / [под. ред. Дж. С. Вильямса, Дж. М. Поута]. – К.: Наукова думка, 1988. – 360 с.
- Белоус, В. А. О влиянии облучения ионами Ar+ на коррозионную стойкость металлов и сплавов [Текст] / В. А. Белоус, Г. И. Носов, Н. А. Азаренков // ФІП ФИП PSE. – 2010. – Т. 8, № 2. – C. 161–168. – Vol. 8, № 2. – P. 161–168.
- Сергеева, М. Х. Наноструктурная модификация поверхности [Текст] / М. Х. Сергеева, В. А. Кохановский // Вестник ДГТУ. – 2008. – Т. 8, № 2. – С. 192–195.
- D’Heurle, F. M. Note on the origin of intrinsic stresses in films deposited via evaporation and sputtering [Текст] / F. M. D’Heurle, J. M. Harper // Thin Solid films. – 1989. – Т. 171, № 1. – С. 81–92.
- Galvanetto, E. XRD and XPS study on reactive plasma sprayed titanium – titanium nitride coating [Текст] / E. Galvanetto, F. P. Galliano, F. Borgioli [et al.] // Thin Solid Films. – 2001. – Т. 384, № 2.- С. 223–229.
- Ellwanger, R. C. The deposition and film properties of reactively sputtered titanium nitride [Текст] / R. C. Ellwanger, J. M. Towner // Thin Solid films. – 1988. – Т. 161. – С. 289–304.
- Grant, W. A. The modification of surface layers by ion implantation [Текст] / W. A. Grant, J. S. Williams // Sci. Prog. Oxf. – 1976. – Т. 63, № 249. – С. 27–64.
- Conrads, H. Plasma generation and plasma sources [Текст] / Н. Conrads, M. Schmidt // Plasma Sources Sci. Technol. – 2000. – № 9. – С. 441–454.
- Kanaya, K. Consistent theory of sputtering of solid targets by ion bombardment using power potential Low [Текст] / Kanaya K., Hojou K., Koga K. [et al.]. / J. Appl. Phys. – 1973. – Т. 12, № 9. – С. 1297–1306.
- Красильников Л. А. Волочильщик проволоки [Текст] / Л. А. Красильников, С. А. Красильников. – М.: Металлургия, 1977. – 240 с.
- Тополянский, П. А. Твердость тонкопленочного покрытия, наносимого методом финишного плазменного упрочнения [Текст] / П. А. Тополянский, С. А. Ермаков, Н. А. Соснин // Технологии ремонта, восстановления и упрочнения деталей машин, механизмов, оборудования, инструмента и технологической оснастки: 7-я междунар. практич. конф.-выставка, 12-15 апр. 2005 г. : тезисы докл. – Санкт-Петербург, 2005. – С. 274–298.
- Физика износостойкости поверхности металлов [Текст] : сб. науч. трудов / [науч. ред. Владимиров В. И. и др.] – Л.: ФТИ, 1988. – 230 с.
- Kuransky, E. (1980). Ion implantation in semiconductors and other materials. Moscow, USSR: World, 332.
- Poate, J. M., Foti, G., & Jacobson, D. C. (1987). The modification and surface alloying of the laser, ion and electron beams. Moscow, USSR: Mechanical Engineering, 424.
- Pogrebnyak, A. D. (2009). Effect of high doses of ions N+ , N+ + Ni+ , Mo+ + W+ on the physico -mechanical properties of TiNi. Journal of Applied Physics, 79 (5), 65-72.
- Williams, J. S., & Poate, J. М. (1988). Ion implantation and beam technologies. Kiev, USSR: Naukova Dumka, 360.
- . Belous, V. А., Nosov, G. I., & Azarenkov, N. A. (2010). The effect of irradiation with Ar + ions on the corrosion resistance of metals and alloys. ФІП ФИП PSE, 8 (2), 161-168.
- Sergeeva, M. Н., & Kochanowski, V. A. (2008). Nanostructured surface modification. Herald DSTU, 8 (2), 192-195.
- D’Heurle, F. M., & Harper, J. M. (1989). Note on the origin of intrinsic stresses in films deposited via evaporation and sputtering. Thin Solid films, 171 (1), 81–92.
- Galvanetto, E. (2001). XRD and XPS study on reactive plasma sprayed titanium – titanium nitride coating. Thin Solid Films, 384 (2), 223–229.
- Ellwanger, R. C., & Towner, J. M. (1988). The deposition and film properties of reactively sputtered titanium nitride. Thin Solid films, 161, 289–304.
- Grant, W. A., & Williams, J. S. (1976). The modification of surface layers by ion implantation. Sci. Prog. Oxf., 63 (249), 27–64.
- Conrads, H., & Schmidt, M. (2000). Plasma generation and plasma sources. Plasma Sources Sci. Technol., 9, 441–454.
- Kanaya, K. (1973). Consistent theory of sputtering of solid targets by ion bombardment using power potential Low. J. Appl. Phys., 12 (9), 1297–1306.
- Krasilnikov, L. A., & Krasilnikov, S. A. (1977). The wiredrawer of wire. Moscow, USSR: Metallurgy, 240.
- Topolyansky, P. A., Ermakov, S. A., & Sosnin, N. A. (2005). The hardness of the thin-film coating applied by plasma hardening finish: 7th Intern. Practical. Konf.-Exhibition on Technology of repair, restoration and strengthening of machine parts, machinery, equipment, tools and tooling, St. Petersburg, 274-298.
- Vladimirov, V. I. (1988). Physics wear of metal surfaces. Leningrad, USSR: Physico-Technical Institute, 230.
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2014 Лариса Александровна Васецкая
![Creative Commons License](http://i.creativecommons.org/l/by/4.0/88x31.png)
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Закріплення та умови передачі авторських прав (ідентифікація авторства) здійснюється у Ліцензійному договорі. Зокрема, автори залишають за собою право на авторство свого рукопису та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons CC BY. При цьому вони мають право укладати самостійно додаткові угоди, що стосуються неексклюзивного поширення роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом, але за умови збереження посилання на першу публікацію статті в цьому журналі.
Ліцензійний договір – це документ, в якому автор гарантує, що володіє усіма авторськими правами на твір (рукопис, статтю, тощо).
Автори, підписуючи Ліцензійний договір з ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР», мають усі права на подальше використання свого твору за умови посилання на наше видання, в якому твір опублікований. Відповідно до умов Ліцензійного договору, Видавець ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР» не забирає ваші авторські права та отримує від авторів дозвіл на використання та розповсюдження публікації через світові наукові ресурси (власні електронні ресурси, наукометричні бази даних, репозитарії, бібліотеки тощо).
За відсутності підписаного Ліцензійного договору або за відсутністю вказаних в цьому договорі ідентифікаторів, що дають змогу ідентифікувати особу автора, редакція не має права працювати з рукописом.
Важливо пам’ятати, що існує і інший тип угоди між авторами та видавцями – коли авторські права передаються від авторів до видавця. В такому разі автори втрачають права власності на свій твір та не можуть його використовувати в будь-який спосіб.