Закономерности структурообразования при вакуумно-дуговом осаждении многослойных наноструктурных TiN-MoN покрытий
DOI:
https://doi.org/10.15587/1729-4061.2011.2270Ключові слова:
Bакуумна дуга, дифрактометрія, багатошарові покриття, TiN-MoNАнотація
Методом рентгенівської дифрактометрії вивчені закономірності структуроутворення в багатошарових TіN-MoN покриттях залежно від умов одержання: величини потенціалу зсуву, товщини шарів, подачі високовольтних імпульсівПосилання
- Аксенов И.И. Вакуумная дуга в эрозийных источниках плазмы. – Харьков: ННЦ ХФТИ, 2005 –212 с
- Самсонов Г.В. Нитриды. Киев: Наукова думка, 1969, 380 с.
- Smithells Metals Reference Book (Ed. E.A. Brandes). London: Butterworth Heinemann. 1992. 1783 р.
- R.A. Koshy, M.E. Graham, L.D. Marks Synthesis and characterization of CrN/Mo2N multulayers and phases of Molybdenum nitride // Surf. Coat. Tech. 202 (2007) 1123 -1128
- А.П. Шпак, О.И. Наконечная, Ю.А. Куницкий, О.В. Соболь. Механические свойства покрытий на основе титана, К.: ИМФ НАНУ, 2005, 84 с.
- Л.С. Палатник, М.Я. Фукс, В.М. Косевич. Механизм образования и субструктура конденсированных пленок. – М.: Наука, 1972. – 320 с.
- I.C. Noyan and J.B. Cohen. Residual Stress Measurement by Diffraction and Interpretation, Springer-Verlag, New York, 1987.ъ.– 350 р.
- Genzel C., Reinmers W. A Study of X-ray Residual-Stress Gradient Analisys in Thin-Layers with Strong Filer Texture // Phys. Stat. Solidi: A-Applied Research. – 1998. Vol.166, №2. - P.751-762
- D. R. McKenzie, Y. Yin, W. D. McFall, and N. H. Hoang. The orientation dependence of elastic strain energy in cubic crystals and its application to the preferred orientation in titanium nitride thin films // Phys. Condens. Mater. 8, 5883-5890 (1996).
##submission.downloads##
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2014 Олег Валентинович Соболь, Анатолий Афанасьевич Андреев, Сергей Николаевич Григорьев, Виктор Федорович Горбань, Вячеслав Александрович Столбовой, Ирина Витальевна Сердюк, Владислав Евгеньевич Фильчиков
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Закріплення та умови передачі авторських прав (ідентифікація авторства) здійснюється у Ліцензійному договорі. Зокрема, автори залишають за собою право на авторство свого рукопису та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons CC BY. При цьому вони мають право укладати самостійно додаткові угоди, що стосуються неексклюзивного поширення роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом, але за умови збереження посилання на першу публікацію статті в цьому журналі.
Ліцензійний договір – це документ, в якому автор гарантує, що володіє усіма авторськими правами на твір (рукопис, статтю, тощо).
Автори, підписуючи Ліцензійний договір з ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР», мають усі права на подальше використання свого твору за умови посилання на наше видання, в якому твір опублікований. Відповідно до умов Ліцензійного договору, Видавець ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР» не забирає ваші авторські права та отримує від авторів дозвіл на використання та розповсюдження публікації через світові наукові ресурси (власні електронні ресурси, наукометричні бази даних, репозитарії, бібліотеки тощо).
За відсутності підписаного Ліцензійного договору або за відсутністю вказаних в цьому договорі ідентифікаторів, що дають змогу ідентифікувати особу автора, редакція не має права працювати з рукописом.
Важливо пам’ятати, що існує і інший тип угоди між авторами та видавцями – коли авторські права передаються від авторів до видавця. В такому разі автори втрачають права власності на свій твір та не можуть його використовувати в будь-який спосіб.