Технологія нанесення нікелевої лицевої металізації ФЕП з низькотемпературніх електролітів нікелювання

Автор(и)

  • Юрий Васильевич Попадинец ООО «ПіВі» вул. Алексія, 10, г. Свалява, Україна, 89300, Україна
  • Дмитрий Александрович Сидоров ООО «ПіВі» вул. Алексія, 10, г. Свалява, Україна, 89300, Україна

DOI:

https://doi.org/10.15587/1729-4061.2012.3723

Ключові слова:

Фотоелектричні перетворювачі, нікелева металізація, низькотемпературні електроліти

Анотація

У статті описана методика нанесення малюнка нікелевій металізації на поверхню кремнієвих ФЭП з використанням електролитів різного складу. Запропоновано  низькотемпературний електроліт, використання якого дозволяє отримувати нікелеву металізацію високої якості

Біографії авторів

Юрий Васильевич Попадинец, ООО «ПіВі» вул. Алексія, 10, г. Свалява, Україна, 89300

Технічний директор

Дмитрий Александрович Сидоров, ООО «ПіВі» вул. Алексія, 10, г. Свалява, Україна, 89300

Науковый співробітник

Посилання

  1. Glunz W., Comparison of different dielectric passivation layers for application in industrially feasible high-efficiency crystalline silicon solar cells / W. Glunz, A. Grohe, M. Hermle et al. // 20th European Photovoltaic Solar Energy Conference 2005. Proceedings: Barcelona, 6-10 June 2005. München / WIP-Renewable Energies, 2005, pp. 572-577.
  2. Gautero L., Characterisation of Aluminium screen-printed local contacts / L. Gautero, F.S. Grasso, J. Rentsch, R. Lanzafame // Proceedings of the 2nd Workshop on Metallization for Crystalline Silicon Solar Cells, Konstanz, 2010. p. 15 - 21,
  3. Hofmann M., PECVD-ONO: A New Deposited Firing Stable Rear Surface Passivation Layer System for Crystalline Silicon Solar Cells / M. Hofmann, S. Kambor, C. Schmidt et al. // Advances in OptoElectronics. – 2008. – Vol. 18. – P.10.
  4. Schaper M., 20.1 %-efficient crystalline silicon solar cell with amorphous silicon rear-surface passivation / M. Schaper, J. Schmidt, H. Plagwitz, R. Brendel // Progress in Photovoltaics Research and Applications. – 2005. – Vol. 13. – P. 381 – 386.
  5. Coleman M.G., Nickel silicide contact for silicon solar cells /M.G. Coleman, W.L. Bailey, R.A. Pryor // Photovoltaic Specialists Conference, 13th, Washington, D.C., June 5-8, 1978 / Conference Record. (A79-40881 17-44) New York, Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc., 1978, p. 597-602
  6. Knorz A., Selective laser ablation of SiNx layers on textured surfaces for low temperature front side metallizations / A. Knorz, M. Peters, A. Grohe et al. // Progress in Photovoltaics: Research and Applications, Volume 17, Issue 2, pages 127–136, 2009.
  7. D. Kray, Industrial LCP selective emitter solar cells with plated contacts / D. Kray, N. Bay, G. Cimiotti et al. // 33-th IEEE Photovoltaics Specialists Conference, San Diego (2008) / RENA GmbH, Gütenbach, Germany, pp. 667 – 671.
  8. Baehr M., A new approach for the front side metallization of industrial type silicon solar cells using a structurization by etching / M Bähr, S Kim, S Sridharan. // Presented at the 22nd European Photovoltaic Solar Energy Conference, September 3-9, 2007, Milan, Italy.
  9. Fallisch A., Inkjet Structured EWT Silicon Solar Cells with Evaporated Aluminum Metallization and Laser-Fired Contacts for solar cell production / A. Fallisch, D. Stüwe, R. Neubauer etal. // Presented at the 35th IEEE PVSC, June 25, 2010, Honolulu, Hawaii, USA.

##submission.downloads##

Опубліковано

2012-04-01

Як цитувати

Попадинец, Ю. В., & Сидоров, Д. А. (2012). Технологія нанесення нікелевої лицевої металізації ФЕП з низькотемпературніх електролітів нікелювання. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 2(5(56), 9–11. https://doi.org/10.15587/1729-4061.2012.3723

Номер

Розділ

Прикладна фізика