Розподіл домішок у процесі росту монокристалів кремнію для сонячних елементів

Автор(и)

  • Юрий Викторович Головко Запорізька державна інженерна академія пр. Леніна 226, м. Запоріжжя, Україна, 69006, Україна

DOI:

https://doi.org/10.15587/1729-4061.2013.9306

Ключові слова:

кремній, монокристал, ефективний коефіцієнт розподілу домішки.

Анотація

Наведено експериментальні дані про величину ефективних коефіцієнтів розподілу домішок бору, кисню та вуглецю на різних стадіях процесу вирощування монокристала кремнію за методом Чохральського. Показано, що зміна величини ефективних коефіцієнтів розподілу цих домішок по ходу спрямованої кристалізації є наслідком зміни співвідношення їхньої концентрації в розплаві та монокристалі, яке впливає на процеси комплексоутворення.

Біографія автора

Юрий Викторович Головко, Запорізька державна інженерна академія пр. Леніна 226, м. Запоріжжя, Україна, 69006

Кандидат технічних наук, доцент

Кафедра фізичної та біомедичної електроніки

Посилання

  1. Проспект фирмы МЕМС, 1994-1995. – 12 с.
  2. Wijaranacula W. Numerical modeling of the point defect aggregation during the Czochralski silicon crystal growth / W. Wijaranacula // Journal of electrochemical society. – 1992. - Vol. 139, № 2. - P. 604-616.
  3. Е.Я. Швец. Моделирование распределения примеси бора в процессе выращивания монокристаллов кремния / Швец Е.Я., Головко О.П., Баев В.С., Головко Ю.В. / Металургія. Збірник наукових праць ЗДІА. - Запоріжжя: ЗДІА, 2007. – Вип. 16. – С. 59 – 63.
  4. Швец Е.Я., Головко Ю.В. Исследование массообмена кислорода в процессе выращивания монокристаллов кремния по методу Чохральского // Теория и практика металлургии, 2008. - № 4-5 (65). – С.3-7.
  5. Швец Е.Я., Головко Ю.В. Исследование распределения углерода между расплавом, твёрдой и газовой фазами в процессе выращивания монокристаллов кремния / Металургія. Збірник наукових праць ЗДІА. - Запоріжжя: ЗДІА, 2008. – Вип. 17. – С. 104-108.
  6. F 723. Standard Practice for Conversion Between Resistivity and Dopant Density for Boron-Doped, Phosphorus-Doped, and Arsenic-Doped Silicon // Annual Book of ASTM Standards.Vol.10.05 (1997).
  7. ASTM F1188. Test method for interstitial atomic oxygen content of silicon by infrared absorption // Annual Book of ASTM Standards.Vol.10.05 (1997).
  8. ASTM F1391. Standard test method for substitutional atomic carbon content of silicon by infrared absorption // Annual Book of ASTM Standards.Vol.10.05 (1997).

##submission.downloads##

Опубліковано

2013-02-05

Як цитувати

Головко, Ю. В. (2013). Розподіл домішок у процесі росту монокристалів кремнію для сонячних елементів. Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 1(5(61), 56–59. https://doi.org/10.15587/1729-4061.2013.9306