Створення сумішей газів для іонно-плазмових технологій
DOI:
https://doi.org/10.15587/1729-4061.2014.21873Ключові слова:
газові суміші, іонно-плазмова технологія, парціальний тиск газу, генератор газових сумішейАнотація
Запропоновано метод створення сумішей газів, що полягає в циклічній продувці камери змішувача одним газом і подальшої подачі газів до заданих парціальних тисків. Розроблено генератор газових сумішей, який реалізує метод для випадку трьох газів, що характеризується високою продуктивністю і точністю співвідношення компонентів в суміші (похибка не вище 0,1%).
Посилання
- Белоус, В. А. Роль аргона в газовой смеси с азотом при получении нитридных конденсатов системы Ti-Si-N в вакуумно-дуговых процессах осаждения [Текст] / В. А. Белоус, Ю. А. Заднепровский, Н. С. Ломино, О. В. Соболь. // ЖТФ. – 2013. – Т. 83, Вып. 7. – С. 69–76.
- Suzuki Tribological performance of a sputtered MоS2 film in air, N2, O2 and H2O environments at pressures from 10-5 Pa to 105 Pa [Text] / Suzuki // Journal of the Society of Tribologists and Lubrication Engineers. – 2001. – Vol. 57, № 1. – P. 23–29.
- Coller, R. The deposition of low-friction TiN-MoSx hard coatings by a combined arc evaporation and magnetron sputter process [Text] / R. Coller, P. Torri, M. A. Baker, R. Gilmore, W. Gissler // Surface and Coatings Technology. – 1999. – Vol. 120–121. – Р. 453–457.
- Dobrzanski, L. A. Structure and properties of the TiN and Ti(C,N) coatings deposited in the PVD process on the high-speed steels [Text] / L. A. Dobrzanski, M. Adamiak // J. of Materials Processing Technology, 2003. – Vol. 133. – Р. 50–62.
- Frenklash, M. J. The role of hydrogen in vapor deposition of diamond [Text] / M. J. Frenklash // J. Appl. Phys, 1989. – Vol. 65, № 12. – Р. 5142–5149.
- Бугров, С. М. Устройство динамического смешения газов [Текст] / С. М. Бугров, Д. К. Симоновский, П. Г. Биндер, М. Н. Ковалев // Современное электротермическое оборудование для поверхностного упрочнения деталей машин и инструментов : тез. докл. симп. – М. : Информэлектро, 1990. – С. 20–21.
- Сысоев, Ю. А. Получение газовых смесей с заданным соотношением компонентов [Текст] / Ю. А. Сысоев, А. В. Козаченко, А. А. Севенко // Новые технологии в машиностроении : матер. междунар. конференции, Рыбачье 20–23 сент. 1992. – С. 59–62.
- Van Sark, W. Computer automation of the Palse Reactor, a pulse operated low-pressure metal organic vapor phase epitaxy machine [Text] / W. van Sark, J. Hogenkamp, J. van Suchtelen, L. Giling // Rev. Sci. Instrum. 61. – 1990. – № 1. – Р. 146–157.
- Patent DK 8 702 096, 1988.
- Пат. № 85625 Україна, МПК В01F3/00. Спосіб підготовки суміші газів для технологічних установок заданого відсоткового складу і пристрій для його реалізації/ Сисоєв Ю. О., Костюк Г. І., Евко Ю. С., Сисоєв А. Ю. – № а 2007 05543 ; заявл. 21.05.2007 ; надрук. 10.02.2009, Бюл. № 3. – 11с.: 4 табл; 6 іл.
- Вершина, А. К. Комбинированная плазменно-вакуумная обработка дереворежущего инструмента [Текст] / А. К. Вершина // Электронная обработка материалов. – 2009. – № 3. – С. 86−91.
- Belous, V. A., Zadneprovsky, Yu. A., Lomino, N. S., Sobol, O. V. (2013). The role of argon in a gas mixture with nitrogen in the preparation of the condensates of the nitride system Ti-Si-N in the vacuum arc deposition process. J. Tech. Phys., 83(7), 69–76.
- Suzuki (2001). Tribological performance of a sputtered MоS2 film in air, N2, O2 and H2O environments at pressures from 10-5 Pa to 105 Pa. J. of the Society of Tribologists and Lubrication Engineers, Vol. 57(1), 23–29.
- Coller, R., Torri, P., Baker, M. A., Gilmore, R., Gissler, W. (1999). The deposition of low-friction TiN-MoSx hard coatings by a combined arc evaporation and magnetron sputter process. Surface and Coatings Technology, 120–121, 453–457.
- Dobrzanski, L., Adamiak, M. (2003). Structure and properties of the TiN and Ti(C,N) coatings deposited in the PVD process on the high-speed steels. J. of Materials Processing Technology, 133, 50–62.
- Frenklash, M. J. (1989). The role of hydrogen in vapor deposition of diamond. J. Appl. Phys, 65 (12), 5142–5149.
- Bugrov, S. M., Simonovsky, D. K., Binder, P. G., Kovalev, A. D. (1990). Dynamic device of gas mixing. Moscow, USSR: Informelektro, 59–62.
- Sysoiev, Yu. A. Kozachenko, A. V., Sevenko, A. A. (1992). Preparation of gas mixtures with a predetermined ratio of components. Rybachie, New technologies in machine building, 59–62.
- Sark, W., Hogenkamp, J., Suchtelen, J., Giling, L. (1990). Computer automation of the Palse Reactor, a pulse operated low-pressure metal organic vapor phase epitaxy machine. Rev. Sci. Instrum. 61(1), 146–157.
- Patent DK 8 702 096 (1988).
- Sisoеv, Ju. O., Kostjuk, G. І., Evko, Ju. S., Sisoеv, A. Ju. (2009). Pat. № 85625 Ukraїna, MPK V01F3/00. Sposіb pіdgotovki sumіshі gazіv dlja tehnologіchnih ustanovok zadanogo vіdsotkovogo skladu і pristrіj dlja jogo realіzacії. № a 2007 05543.
- Verchina, A. K. (2009). Combined plasma-vacuum treatment of woodworking tools. Electronic processing of materials, 3, 86–61.
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2014 Юрий Александрович Сысоев, Виталий Павлович Руденко, Андрей Валентинович Доломанов
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Закріплення та умови передачі авторських прав (ідентифікація авторства) здійснюється у Ліцензійному договорі. Зокрема, автори залишають за собою право на авторство свого рукопису та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons CC BY. При цьому вони мають право укладати самостійно додаткові угоди, що стосуються неексклюзивного поширення роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом, але за умови збереження посилання на першу публікацію статті в цьому журналі.
Ліцензійний договір – це документ, в якому автор гарантує, що володіє усіма авторськими правами на твір (рукопис, статтю, тощо).
Автори, підписуючи Ліцензійний договір з ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР», мають усі права на подальше використання свого твору за умови посилання на наше видання, в якому твір опублікований. Відповідно до умов Ліцензійного договору, Видавець ПП «ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ЦЕНТР» не забирає ваші авторські права та отримує від авторів дозвіл на використання та розповсюдження публікації через світові наукові ресурси (власні електронні ресурси, наукометричні бази даних, репозитарії, бібліотеки тощо).
За відсутності підписаного Ліцензійного договору або за відсутністю вказаних в цьому договорі ідентифікаторів, що дають змогу ідентифікувати особу автора, редакція не має права працювати з рукописом.
Важливо пам’ятати, що існує і інший тип угоди між авторами та видавцями – коли авторські права передаються від авторів до видавця. В такому разі автори втрачають права власності на свій твір та не можуть його використовувати в будь-який спосіб.